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高温超导薄膜单晶基片
氧化镁(MgO)

简介: 广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等。由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片,所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

参数:

氧化镁(MgO)晶体及基片
生长方法 电弧熔炼法
晶体结构 立方(a=4.216Å)
密度 3.58g/cm3
纯度 99.95%
热膨胀系数 12.8ppm/℃
介电常数 9.8
光学透过率 >90% (200~400nm), >98% (500~1000nm)
晶向 <100>、<110>、<111>±0.5°,或特殊方向
尺寸 dia2” ×0.5mm, 25×25×0.5mm, 15×15×0.5mm 10×10×0.5mm, 10×5×0.5mm, 5×5×0.5mm
抛光 单面或双面抛光
表面粗糙度 ≤5Å
封装 100级超净袋、单片或多片晶元盒





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