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陶瓷基片
氧化铝(Al2O3)基片

用途:Al2O3单晶有很好的热特性,电气特性和介电特性,同时具有耐腐蚀、耐高温的特性,导热好、硬度高、透红外、化学稳定性好,广泛用于耐高温红外窗口材料,是III-V族氮化物及多种外延薄膜的基片材料。

参数:
Al2O3单晶基片
晶体结构 六方(a= 4.758Å,c=12.992 Å)
密度 3.98g/cm3
纯度 >99.99%
介电常数 9.4(300k) at A axis, 11.58(300k) at C axis
晶向 CRAM±0.5o
尺寸 10×10×0.5 mm, 0.5×0.5×0.5mm,Φ1×0.5 mm, Φ2×0.5 mm,Φ3×0.5 mm
抛光 单面或双面
表面粗糙度
封装 100级超净袋、单片或多片晶元盒

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